光學(xué)儀器中，光學(xué)元件表面的反射，不僅影響光學(xué)元件的通光能量，而且這些反射光還會(huì)在儀器中形成雜散光，影響光學(xué)儀器的成像質(zhì)量，為了解決這些問(wèn)題，通常在光學(xué)元件的表面鍍上一定厚度的單層或多層膜，目的是為了減小元件表面的反射光，這樣的膜叫光學(xué)增透膜或減反膜。

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一般情況下，當(dāng)光入射在給定的材料的光學(xué)元件的表面時(shí)，所產(chǎn)生的反射光與透射光能量確定，在不考慮吸收、散射等其他因素時(shí)，反射光與透射光的總能量等于入射光的能量，即滿(mǎn)足能量守恒定律。

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當(dāng)光學(xué)元件表面鍍膜后，在不考慮膜的吸收及散射等其他因素時(shí)，反射光和透射光與入射光仍滿(mǎn)足能量守恒定律，而所鍍膜的作用是使反射光與透射光的能量重新分配，對(duì)增透膜而言，分配的結(jié)果使反射光的能量減小，透射光的能量增大。由此可見(jiàn)增透膜的作用使得光學(xué)元件表面反射光與透射光的能量重新分配，分配的結(jié)果是透射光能量增大，反射光能量減小。

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光就有這樣的特性：通過(guò)改變反射區(qū)的光強(qiáng)可以改變透射區(qū)的光強(qiáng)， 隨著增透膜的不斷開(kāi)發(fā)和研究，光學(xué)增透膜的鍍膜技術(shù)也在不斷的發(fā)展，光學(xué)增透膜的厚度要控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)1/4波長(zhǎng)的數(shù)量級(jí)上，增透膜的均勻度的要求也非常的苛刻。常用的鍍膜方法有真空蒸鍍、化學(xué)氣相沉積、溶膠—凝膠鍍膜等方法。

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